靜電除垢儀和電子除垢儀的除垢機理都是通過電場改變水分子電子層分布狀態，從而改變了水垢結生條件，并使已結水垢疏松、龜裂、脫落。

　　內磁式水處理器利用釹鐵硼稀土永磁材料所蘊藏的巨大能量，經優化設計，形成多波峰垂宜中心磁場。當水或流體以大于1.5m/s的流速流經垂直磁場時，會產生巨大的電動勢能，即發生如下物理變化：

　　(1)品格細化。原水中的堿離子晶核約3.39um，處理后達0.24um;

　　(2)電導率、滲透壓發生變化，導致微生物細胞破裂，細胞停止繁殖達到殺菌滅藻的效果;

　　(3)微量沉積作用。原水經過磁場處理，產生微小電子流促使紅銹轉化成穩定的四氧化三鐵，產生黑色磁性氧化鐵，沉積到管壁表面形成膜阻隔層，使水中的溶解氧與管壁隔離，從而達到除銹防銹的目的。

　　3種設備均能有效地去除水垢和阻止水垢的形成，同時也有防腐除銹的功能，區別在于設備的工作參數不同。內磁式水處理器適應的介質溫度最高可達130℃，其他2種設備

　　小于81度。靜電除垢儀的最高工作壓力為1.0M帕，電子式水處理招為1.6 M.，內磁式水處理器的工作壓力最高，可達到2.0 Pa.無論是靜電除垢儀、電子水式水處理器、還是內磁式水處理器，一般只適用于產生碳酸鹽垢型的水質，當水中的主要結垢成分是硅酸鹽時，.不宜使用。

　　由于設備的作用機理不同，因而在維護方面也有所不同。電子除垢儀和電子式水處理器的防垢作用都是一定時段累計作用的結果，因此平時應勤于檢查設備的工作狀態，同時注意定期保養清洗電極或發射極，防止設備潮濕和灑入水后造成的短路或元件燒毀等情況的發生。內磁式水處理器雖然無須經常性的檢查維護，但在年終大修時也應打開設備內部清理可能存在的堵塞物質，保證設備正常運行。

　　綜上所述，內磁式水處理器使用介質溫度高，工作壓力大，運行堆護簡單，具有明顯的優越性，可以廣泛應用于各個領域。